Máy Đo Độ Đục Và Clo HI83414-02 (40.0 NTU, 5.00 mg/L)

Model: HI83414-02
Hãng sản xuất: HANNA
Xuất xứ: RUMANI
Bảo hành: 12 tháng
Thông số kỹ thuật:
ĐỘ ĐỤC
Thang đo chế độ không tỷ lệ: 0.00 to 9.99; 10.0 to 40.0 NTU; 0.0 to 99.9; 100 to 268 Nephelos; 0.00 to 9.80 EBC
Độ phân giải chế độ không tỷ lệ: 0.01; 0.1 NTU; 0.1; 1 Nephelos; 0.01 EBC
Thang đo tỷ lệ chế độ: 0.00 to 9.99; 10.0 to 99.9; 100 to 4000 NTU; 0.0 to 99.9; 100 to 26800 Nephelos; 0.00 to 9.99; 10.0 to 99.9; 100 to 980 EBC
Độ phân giải tỷ lệ chế độ: 0.01; 0.1; 1 NTU; 0.1; 1 Nephelos; 0.01; 0.1, 1 EBC
Độ chính xác: ±2% giá trị cộng 0.02 NTU (0.15 Nephelos; 0.01 EBC), ±5% giá trị trên 1000 NTU (6700 Nephelos; 245 EBC)
Lựa chọn thang đo: Tự động
Độ lặp: ±1% giá trị hoặc 0.02 NTU (0.15 Nephelos; 0.01 EBC) cho giá trị lớn hơn
Ánh sáng lạc: < 0.02 NTU (0.15 Nephelos; 0.01 EBC)
Đầu dò ánh sáng: tế bào quang điện silicon
Phương pháp: nephelometric (90°) hoặc nephelometric theo tỷ lệ (90° & 180°), phù hợp của USEPA 180.1 và Chuẩn 2130 B
Chế độ đo: bình thường, trung bình, liên tục
Chuẩn độ đục: < 0.1, 15, 100, 750 và 2000 NTU
Hiệu chuẩn: 2, 3, 4 hoặc 5 điểm
CLO  
Thang đo clo dư và clo tổng: 0.00 to 5.00 mg/L (ppm)
Độ phân giải clo dư và clo tổng: 0.01 mg/L (ppm) từ 0.00 to 3.50 mg/L (ppm); 0.10 trên 3.50 mg/L (ppm)
Độ chính xác clo dư và clo tổng: ±0.02 mg/L @ 1.00 mg/L
Đầu dò ánh sáng: tế bào quang điện silicon @525nm
Phương pháp: USEPA 330.5 và Chuẩn 4500-Cl G.
Chuẩn độ đục: 1.00 mg/L
Hiệu chuẩn: 1 điểm
THÔNG SỐ CHUNG
Nguồn sáng: Đèn tungsten filament / hơn 100.000 giá trị
Màn hình: LCD đồ họa 40 x 70 mm (64 x 128 pixels) có đèn nền
Bộ nhớ: 200 bản ghi
Kết nối: USB
Môi trường: 0 to 50°C (32 to 122°F), RH max 95% không ngưng tụ
Nguồn: 115/130 VAC; 50/60 Hz
Kích thước; 230 x 200 x 145 mm (9.0 x 7.9 x 5.7”)
Khối lượng: 2.5 kg (88 oz.)
Bảo hành: 12 tháng
Cung cấp gồm: HI83414 được cung cấp với cuvet mẫu và nắp (5), bộ cuvet hiệu chuẩn máy HI83414-11, dầu silicon, khăn lau cuvet, kéo, dây điện, hướng dẫn.